E-Beam System  
Sputter System
E-Beam System
EMI Coating System
PDP용 배기봉착 시스템
Vacuum Dry Oven
특수기능용 Vacuum 시스템

 
상 담 문 의
 
 
055) 251-9663
 
 
E-Mail
 
  webmaster@mrhitec.co.kr  


 

 
 
  E-Beam System

 











미래하이텍 E-Beam 시스템은 Ion Beam Assisted Deposition방법을 이용하여
양질의 박막 구현이 가능한 장비임.

Thickness Controller를 장착하여 원하는 코팅 두께를 정밀하게 조절할 수 있음.

기판가열(500℃), 공/자전 Jig 속도 및 거리 조절이 용이함.

전자빔의 Sweeping 기능을 추가하여 전자빔 조사 패턴을 용이하게 설정할 수 있음.

Pocket용 Crucible8개와 원반형 대용량 Crucible이 동시에 장착되어 있어서 생산 및
연구용 Multi Coating이 가능한 시스템임.

 
 
 
 
 

E-Beam System
 
Specification
  ▷ Size : 800(Dia.) x 800(h)
▷ Pumping System : Rotary + Cryo Pump
▷ Sub. Holder : 공 / 자전
▷ Gas Feeding : Ar
▷ Coating Source : Dual E-Beam (10 keV)
▷ Max. Temp : 500 °C
▷ Ultimate Pressure : 1x10E-6 Torr
▷ Accessory. : Ion-Beam
▷ Application : Implant, 인공관절